Penumbuhan Film Tipis Titanium Dioxide (TiO2) pada Substrat Si(100) dengan Metode Spin Coating

Please use this identifier to cite or link to this item: https://repository.unej.ac.id/xmlui/handle/123456789/96992

Title:	Penumbuhan Film Tipis Titanium Dioxide (TiO2) pada Substrat Si(100) dengan Metode Spin Coating
Authors:	Supriyanto, Edy
Keywords:	butiran kristal morfologi kristal struktur kristal spin-coating TiO2 wetting layer
Issue Date:	2-Jan-2013
Publisher:	Jurnal Sains, Vol. 41, No. 1, Januari 2013
Abstract:	Pemanasan pada suhu 400C menghasilkan film amorf, suhu 450C menghasilkan campuran rutile dan anatase, dan pemanasan pada suhu 500C dan 550C menghasilkan Fil berfase anatase. Film tipis yang dihasilkan merupakan film homogen dengan ukuran butir berorde nano meter dan mempunyai celah pita energi sekitar 3,7 eV.
URI:	http://repository.unej.ac.id/handle/123456789/96992
Appears in Collections:	LSP-Jurnal Ilmiah Dosen

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
F. MIPA_Jurnal_Edy Supriyanto_Penumbuhan film tipis.pdf		1 MB	Adobe PDF	View/Open

DSpace JSPUI